[INGLÉS] Ferroelectric Dielectrics Integrated on Silicon Edited by Emmanuel Defay [Author]

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Este libro describe la tecnología actualizada aplicada a materiales de alta K para aplicaciones More Than Moore, es decir, microsistemas aplicados a tecnologías centrales de microelectrónica. Después de detallar la teoría termodinámica básica aplicada a películas delgadas con dieléctricos de alto K, incluidos los efectos extrínsecos, este libro enfatiza la especificidad de las películas delgadas. Luego se presentan las tecnologías de deposición y modelado. Se dedica un capítulo completo al importante papel que desempeña en el campo la caracterización por difracción de rayos X, y también se describen otras técnicas de caracterización, como la caracterización por radiofrecuencia. Se realiza un estudio en profundidad de la influencia de las corrientes de fuga junto con una discusión sobre la confiabilidad. Tres capítulos de aplicación cubren capacitores integrados, capacitores variables y memorias ferroeléctricas. El capítulo final trata de un campo de investigación razonablemente nuevo, las películas delgadas multiferroicas.

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